ニュースリリース

計測・制御・監視とシステムの株式会社チノー（社長　苅谷嵩夫）は、光干渉式膜厚計の販売を12月26日に開始する。

この新商品は薄膜の光干渉を利用した非接触式の膜厚計であり、光ファイバによって対象サンプルに光を照射し、その反射光を最速10msで連続分光することで干渉スペクトルを計測し膜厚解析を行う。

各種薄膜の厚みを製造プロセス上で管理することで品質の向上・不良品の早期発見ができ、生産の安定化と効率化が実現できる。
本体はIP65の防塵防滴構造となっており、使用温度範囲は0〜50℃、ファイバ部分は0〜150℃で使用できる。 現在、危険場所での使用に対応するため防爆形も開発中であるが、本商品でもファイバ部分を長くし、本体を離すことで対応可能である。

本商品は可視〜近赤外域（0.4〜1.0μm）の波長領域を最小1nmの波長分解能で連続分光し、干渉スペクトルに対してFFT解析・カーブフィッティング解析の2種のアルゴリズムを選択して膜厚を解析することが出来る。 これにより、20nm〜50μmの広範囲の膜厚を高精度で計測することが可能となっている。

主な計測対象として、半導体ウェハ上の酸化膜・窒化膜・レジスト膜、太陽電池・FPDのITO膜・AR膜・ハードコート、機能性フィルムなどがある。 さらに最大4層までの多層膜解析も可能で、薄膜機能性フィルムなどは基材と塗工膜を同時に計測できる。
また、製紙ラインの塗工膜においては乾燥前のWET状態でも計測可能である。

• 半導体、液晶、太陽電池、フィルム製造プロセスの各種膜厚のリアルタイム計測
• 可視〜近赤外領域を最小 1nm の高分解能にて連続スペクトル計測
• 最大4層までの多層膜同時計測
• 本体使用温度 0〜50℃、防塵防滴構造 IP65