半導体ウエハ表面研磨温度測定

せっかく研磨したウエハが最終検査で「不良」判定され、歩留まりが上がらない。
そんな課題はありませんか?

最終的な高さ測定は「結果発表」です。しかし、そこで問題が発覚しても手遅れ。
重要なのは、研磨プロセス中の状態把握です。
その鍵は、目には見えない「温度」
研磨中の温度ムラこそが、最終品質を左右する最大要因なのです。

この資料では、温度による研磨プロセス安定化の具体的なソリューションをご紹介します。

研磨工程における温度計測が重要な4つの理由

見えない温度ムラの可視化
研磨中の局所的な温度上昇が平坦度を損なう根本原因を特定
リアルタイム異常検知
最終検査の「後の祭り」を防ぐ、プロセス進行中の瞬時異常発見
勘を科学に変える標準化
ベテランの感覚をデータ化し、誰でも再現可能な品質管理を実現
温度データによる自動最適化
温度に基づく研磨条件の自動補正で、常に最適な研磨状態を維持

ご提案する計測システム

KHR.22020.Semicon surface polish

※アプリケーション例は、ダウンロードしてご確認ください。

PDF形式 | 技術資料
詳細資料をダウンロード

補足情報

適用分野:半導体製造プロセス
|
対象工程:ウエハ表面研磨工程
|
主な効果:表面品質向上、歩留まり改善

温度管理でお困りのことがございましたら、
お気軽にご相談ください

Membership
チノーWeb会員のご案内

チノーWeb会員にご登録頂きますと、製品の取扱説明書がご覧いただけます。
ご希望によりチノーの商品の最新情報をメールでお送りしています。

ダウンロードには会員ログインが必要です。